Ibm и basf будут совместно разрабатывать 32 нм техпроцесс
Компании IBM и BASF ратифицировали договор о совместной работе над созданием 32 нм техпроцесса, для того, чтобы в 2010 г. начать его использование на практике для выпуска чипов нового поколения. Главное направление сотрудничества – совершенствование химических процессов, используемых в литографии – главном способе при производстве микросхем.
Германская корпорация BASF уже есть большим поставщиком химических реактивов для чипмейкеров, но замыслы сотрудничества с IBM являются более широкими, включая обмен сотрудниками и проведение совместных экспертиз. Любая из компаний займется той частью работы, в которой имеет громаднейший опыт: BASF возьмет на себя тестирование операций и отработку синтеза, в то время как на долю IBM дастся прикладная работа и создание прототипов. Денежные условия соглашения содержатся в тайне.
IBM собирается применять новый техпроцесс для выпуска всей линейки собственных чипов, включая сравнительно не так давно заявленные процессоры Power6, Cell Broadband Engine и телекоммуникационные платформы на базе ASIC. Сотрудничество со сторонними компаниями при работе над новыми проектами для IBM не ново – подобным образом, с участием Сони и Toshiba, разрабатывался процессор Cell. В последних числах Мая компания заявила о сотрудничестве с группой чипмейкеров, трудящихся над продвижением 32 нм техпроцесса, в которую входят Chartered Semiconductor Manufacturing, Freescale Semiconductor, Infineon Technologies и Samsung Electronics.
без сомнений, IBM разглядывает новое соглашение кроме этого как средство для упрочнения собственных позиций в конкуренции за технологическое первенство с Intel, которая собирается выпустить на рынок собственные 32 нм чипы в 2009 г. На сегодня Intel лидирует по части «самого узкого» техпроцесса: выход 45 нм процессоров Penryn ожидается уже в течение последних трех месяцев этого года, в то время как IBM и ее партнер, компания AMD, несобираются начать продажи 45 нм чипов ранее середины 2008 г. В соревнование разработок вступила и Texas Instruments, сравнительно не так давно заявившая о намерении приступить к выпуску 45 нм high-k продукции в середине следующего года.
Создатель: Александр Харьковский
